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文献
J-GLOBAL ID:201802290786669177   整理番号:18A1698767

光電気化学エッチングとポストメタライゼーションアニーリングにより作製したリセスゲートAlGaN/GaN高電子移動度トランジスタ(HEMT)

Recessed-gate AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistors (HEMTs) Prepared by Photo-electrochemical Etching and Post-metallization Annealing
著者 (5件):
UEMURA Keisuke
(Hokkaido Univ., JPN)
DEKI Manato
(Nagoya Univ., JPN)
HONDA Yoshio
(Nagoya Univ., JPN)
AMANO Hiroshi
(Nagoya Univ., JPN)
SATO Taketomo
(Hokkaido Univ., JPN)

資料名:
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))

巻: 79th  ページ: ROMBUNNO.19p-CE-4  発行年: 2018年09月05日 
JST資料番号: Y0055B  ISSN: 2758-4704  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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