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文献
J-GLOBAL ID：201802291803185717
整理番号：18A0887392
溶媒蒸気アニール処理した光活性層におけるバルクヘテロ接合形態のラマン解析
Raman study of bulk-heterojunction morphology in photoactive layers treated with solvent-vapor annealing
ONOJIMA Norio
(Univ. Yamanashi, Kofu, JPN)
,
ISHIMA Yasuhisa
(Univ. Yamanashi, Kofu, JPN)
,
IZUMI Daisuke
(Univ. Yamanashi, Kofu, JPN)
,
TAKAHASHI Kazuyuki
(Univ. Yamanashi, Kofu, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57 号： 3S2 ページ： 03EG01.1-03EG01.4 発行年： 2018年03月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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