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文献
J-GLOBAL ID：201902210592732941
整理番号：19A1409609
ラジカル増強原子層堆積により合成したCoFe_2O_4薄膜の磁気特性【JST・京大機械翻訳】
Magnetic Properties of CoFe2O4 Thin Films Synthesized by Radical-Enhanced Atomic Layer Deposition
Pham Calvin D.
(Department of Chemical and Biomolecular Engineering, University of California, Los Angeles (UCLA))
,
Chang Jeffrey
(Department of Chemical and Biomolecular Engineering, University of California, Los Angeles (UCLA))
,
Zurbuchen Mark A.
(Department of Electrical Engineering, University of California, Los Angeles (UCLA))
,
Chang Jane P.
(Department of Chemical and Biomolecular Engineering, University of California, Los Angeles (UCLA))
資料名：
ACS Applied Materials & Interfaces
(ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 9 号： 42 ページ： 36980-36988 発行年： 2017年10月25日
JST資料番号： W2329A ISSN： 1944-8244 CODEN： AAMICK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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