文献
J-GLOBAL ID:201902211049904256
整理番号:19A0182622
高アスペクト比犠牲シリコンナノ構造を通して形成した多材料ナノ多孔性膜【JST・京大機械翻訳】
Multimaterial Nanoporous Membranes Shaped through High Aspect-Ratio Sacrificial Silicon Nanostructures
著者 (4件):
Varricchio Stefano S. G.
(Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Switzerland)
,
Piacentini Niccolo
(Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Switzerland)
,
Bertsch Arnaud
(Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Switzerland)
,
Renaud Philippe
(Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Switzerland)
資料名:
ACS Omega
(ACS Omega)
巻:
2
号:
6
ページ:
2387-2394
発行年:
2017年
JST資料番号:
W5044A
ISSN:
2470-1343
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)