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J-GLOBAL ID:201902212008020590   整理番号:19A0011941

炭化タングステン中間層を用いた水素フリーDLC膜の密着性の改善【JST・京大機械翻訳】

Improvement of adhesion of hydrogen-free DLC film by employing an interlayer of tungsten carbide
著者 (11件):
Isono Ryo
(Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi, 441-8580, Japan)
Tanimoto Tsuyoshi
(Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi, 441-8580, Japan)
Iijima Yushi
(Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi, 441-8580, Japan)
Kusumawan Sholihatta Aziz
(Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi, 441-8580, Japan)
Harigai Toru
(Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi, 441-8580, Japan)
Suda Yoshiyuki
(Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi, 441-8580, Japan)
Takikawa Hirofumi
(Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi, 441-8580, Japan)
Kamiya Masao
(Itoh Optical Industrial Co., Ltd., 3-19, Miyanari, Gamagori, 443-0041, Japan)
Kaneko Satoru
(Kanagawa Institute of Industrial Science and Technology, 705-1, Shimoimaizumi, Ebina, 243-0435, Japan)
Kunitsugu Shinsuke
(Industrial Technology Center of Okayama Prefecture, 5301, Haga, Kitaku, Okayama, 701-1296, Japan)
Taki Makoto
(Onward Ceramic Coating Co., Ltd., 13, Yoshiwara, Nomi, 929-0111, Japan)

資料名:
AIP Conference Proceedings  (AIP Conference Proceedings)

巻: 1929  号:ページ: 020019-020019-7  発行年: 2018年 
JST資料番号: D0071C  ISSN: 0094-243X  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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