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文献
J-GLOBAL ID：201902212110450360
整理番号：19A2202059
シリコン技術向けのグラフェンと二次元材料
Graphene and two-dimensional materials for silicon technology
AKINWANDE Deji
(Microelectronics Res. Center, Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. Texas at Austin, Austin, TX, USA)
,
SERNA Martha I.
(Microelectronics Res. Center, Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. Texas at Austin, Austin, TX, USA)
,
HUYGHEBAERT Cedric
(IMEC, Leuven, BEL)
,
WANG Ching-Hua
(Dep. of Electrical Engineering, Stanford Univ., Stanford, CA, USA)
,
WONG H.-S. Philip
(Dep. of Electrical Engineering, Stanford Univ., Stanford, CA, USA)
,
GOOSSENS Stijn
(ICFO-Inst. Ciencies Fotoniques, Barcelona Inst. of Sci. and Technol., Castelldefels (Barcelona), Barcelona, ESP)
,
KOPPENS Frank H. L.
(ICFO-Inst. Ciencies Fotoniques, Barcelona Inst. of Sci. and Technol., Castelldefels (Barcelona), Barcelona, ESP)
,
LI Lain-Jong
(Corporate Res., Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC), Hsinchu, TWN)
,
WONG H.-S. Philip
(Corporate Res., Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC), Hsinchu, TWN)
,
KOPPENS Frank H. L.
(ICREA-Institutetucio Catalana de Recerca i Estudis Avancats, Barcelona, ESP)
資料名：
Nature (London)
(Nature (London))
巻： 573 号： 7775 ページ： 507-518 発行年： 2019年09月26日
JST資料番号： D0193B ISSN： 0028-0836 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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