文献
J-GLOBAL ID:201902212870265972
整理番号:19A1415701
新しいフッ素源FeF_3を用いたT_c=55KのSmFeAs(O,F)膜の分子ビームエピタクシー成長【JST・京大機械翻訳】
Molecular beam epitaxy growth of SmFeAs(O,F) films with Tc = 55 K using the new fluorine source FeF3
著者 (4件):
Sakoda Masahito
(Department of Applied Physics, Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo, Japan)
,
Ishii Akihiro
(Department of Applied Physics, Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo, Japan)
,
Takinaka Kenji
(Department of Applied Physics, Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo, Japan)
,
Naito Michio
(Department of Applied Physics, Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo, Japan)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
122
号:
1
ページ:
015306-015306-9
発行年:
2017年
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)