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文献
J-GLOBAL ID:201902213426813030   整理番号:19A0610729

高感度電子線ホログラフィーによるGaN系半導体のドーパント濃度分布の観察

Observation of Dopant Concentration in GaN Semiconductor by High Sensitivity Electron Holography
著者 (11件):
仲野靖孝
(一般財団法人ファインセラミックスセンター)
松本実子
(一般財団法人ファインセラミックスセンター)
穴田智史
(一般財団法人ファインセラミックスセンター)
山本和生
(一般財団法人ファインセラミックスセンター)
石川由加里
(一般財団法人ファインセラミックスセンター)
平山司
(一般財団法人ファインセラミックスセンター)
安藤悠人
(名古屋大学)
小倉昌也
(名古屋大学)
田中敦之
(名古屋大学)
本田善央
(名古屋大学)
天野浩
(名古屋大学)

資料名:
まてりあ  (Materia Japan)

巻: 58  号:ページ: 103(J-STAGE)  発行年: 2019年 
JST資料番号: F0163A  ISSN: 1340-2625  CODEN: MTERE2  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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