文献
J-GLOBAL ID:201902215924788990
整理番号:19A2412927
面積増強基板上のドープ酸化ハフニウム(HfO_2)薄膜における焦電エネルギー変換【JST・京大機械翻訳】
Pyroelectric Energy Conversion in Doped Hafnium Oxide (HfO2) Thin Films on Area-Enhanced Substrates
著者 (6件):
Hanrahan Brendan
(Sensors and Electron Devices Directorate, U.S. Army Research Laboratory, Adelphi, 20783, MD, USA)
,
Mart Clemens
(Center Nanoelectronic Technologies, Fraunhofer Institute for Photonic Microsystems IPMS, Konigsbruecker Str. 178, Dresden, 01099, Germany)
,
Kaempfe Thomas
(Center Nanoelectronic Technologies, Fraunhofer Institute for Photonic Microsystems IPMS, Konigsbruecker Str. 178, Dresden, 01099, Germany)
,
Czernohorsky Malte
(Center Nanoelectronic Technologies, Fraunhofer Institute for Photonic Microsystems IPMS, Konigsbruecker Str. 178, Dresden, 01099, Germany)
,
Weinreich Wenke
(Center Nanoelectronic Technologies, Fraunhofer Institute for Photonic Microsystems IPMS, Konigsbruecker Str. 178, Dresden, 01099, Germany)
,
Smith Andrew
(Mechanical Engineering Department, U.S. Naval Academy, Annapolis, 21402, MD, USA)
資料名:
Energy Technology
(Energy Technology)
巻:
7
号:
10
ページ:
e1900515
発行年:
2019年
JST資料番号:
W2559A
ISSN:
2194-4288
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)