文献
J-GLOBAL ID:201902216779802220
整理番号:19A2011587
急速熱アニーリング後のB+注入シリコンの包括的キャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】
Comprehensive Characterization of B+ Implanted Silicon after Rapid Thermal Annealing
著者 (4件):
Yoo Woo Sik
(WaferMasters, Inc., Dublin, CA, 94568, USA)
,
Gon Kim Jung
(WaferMasters, Inc., Dublin, CA, 94568, USA)
,
Ishigaki Toshikazu
(WaferMasters, Inc., Dublin, CA, 94568, USA)
,
Kang Kitaek
(WaferMasters, Inc., Dublin, CA, 94568, USA)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2019
号:
IWJT
ページ:
1-2
発行年:
2019年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)