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文献
J-GLOBAL ID：201902218834325442
整理番号：19A2691832
RFプラズマエッチングによるホウ素ドープダイヤモンド膜の自己マスキング・ナノ構造化の研究【JST・京大機械翻訳】
Study of self-masking nanostructuring of boron doped diamond films by RF plasma etching
Marton Marian
(Institute of Electronics and Photonics, FEI STU in Bratislava, Ilkovicova 3, 812 19, Bratislava, Slovakia)
,
Ritomsky Mario
(Institute of Informatics, Slovak Academy of Sciences, Dubravska Cesta 9, 845 07, Bratislava, Slovakia)
,
Michniak Pavol
(Institute of Electronics and Photonics, FEI STU in Bratislava, Ilkovicova 3, 812 19, Bratislava, Slovakia)
,
Behul Miroslav
(Institute of Electronics and Photonics, FEI STU in Bratislava, Ilkovicova 3, 812 19, Bratislava, Slovakia)
,
Rehacek Vlastimil
(Institute of Electronics and Photonics, FEI STU in Bratislava, Ilkovicova 3, 812 19, Bratislava, Slovakia)
,
Redhammer Robert
(Institute of Electronics and Photonics, FEI STU in Bratislava, Ilkovicova 3, 812 19, Bratislava, Slovakia)
,
Vincze Andrej
(International Laser Centre, Ilkovicova 3, 84104, Bratislava, Slovakia)
,
Papula Martin
(Central European Institute of Technology, Brno University of Technology, Purkynova 123, 612 00, Brno, Czech Republic)
,
Vojs Marian
(Institute of Electronics and Photonics, FEI STU in Bratislava, Ilkovicova 3, 812 19, Bratislava, Slovakia)
資料名：
Vacuum
(Vacuum)
巻： 170 ページ： Null 発行年： 2019年
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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