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J-GLOBAL ID:201902218834325442   整理番号:19A2691832

RFプラズマエッチングによるホウ素ドープダイヤモンド膜の自己マスキング・ナノ構造化の研究【JST・京大機械翻訳】

Study of self-masking nanostructuring of boron doped diamond films by RF plasma etching
著者 (9件):
Marton Marian
(Institute of Electronics and Photonics, FEI STU in Bratislava, Ilkovicova 3, 812 19, Bratislava, Slovakia)
Ritomsky Mario
(Institute of Informatics, Slovak Academy of Sciences, Dubravska Cesta 9, 845 07, Bratislava, Slovakia)
Michniak Pavol
(Institute of Electronics and Photonics, FEI STU in Bratislava, Ilkovicova 3, 812 19, Bratislava, Slovakia)
Behul Miroslav
(Institute of Electronics and Photonics, FEI STU in Bratislava, Ilkovicova 3, 812 19, Bratislava, Slovakia)
Rehacek Vlastimil
(Institute of Electronics and Photonics, FEI STU in Bratislava, Ilkovicova 3, 812 19, Bratislava, Slovakia)
Redhammer Robert
(Institute of Electronics and Photonics, FEI STU in Bratislava, Ilkovicova 3, 812 19, Bratislava, Slovakia)
Vincze Andrej
(International Laser Centre, Ilkovicova 3, 84104, Bratislava, Slovakia)
Papula Martin
(Central European Institute of Technology, Brno University of Technology, Purkynova 123, 612 00, Brno, Czech Republic)
Vojs Marian
(Institute of Electronics and Photonics, FEI STU in Bratislava, Ilkovicova 3, 812 19, Bratislava, Slovakia)

資料名:
Vacuum  (Vacuum)

巻: 170  ページ: Null  発行年: 2019年 
JST資料番号: E0347A  ISSN: 0042-207X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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