文献
J-GLOBAL ID:201902218899536656
整理番号:19A2094909
高速でフォトリソグラフィーを用いない作製による多層パターンを持つ防水,全方向伸縮可能エレクトロニクス【JST・京大機械翻訳】
Waterproof, Omnidirectionally Stretchable Electronics with Multilayer Patterns Via Rapid, Photolithography-Free Fabrication
著者 (4件):
Xu Renxiao
(Department of Mechanical Engineering, University of California, Berkeley, USA)
,
He Peisheng
(Department of Mechanical Engineering, University of California, Berkeley, USA)
,
Sanghadasa Mohan
(Aviation and Missile Research, Development, and Engineering Center, US Army, USA)
,
Lin Liwei
(Department of Mechanical Engineering, University of California, Berkeley, USA)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2019
号:
TRANSDUCERS & EUROSENSORS XXXIII
ページ:
2460-2463
発行年:
2019年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)