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文献
J-GLOBAL ID：201902220082057760
整理番号：19A2299171
ゼロ価Ru(DMBD)(CO)_3と水を用いたルテニウム金属の自己触媒低温原子層堆積【JST・京大機械翻訳】
Self-Catalyzed, Low-Temperature Atomic Layer Deposition of Ruthenium Metal Using Zero-Valent Ru(DMBD)(CO)3 and Water
Gao Zhengning
(Institute of Materials Science and Engineering, Washington University in St. Louis)
,
Le Duy
(Department of Physics, University of Central Florida)
,
Khaniya Asim
(Department of Physics, University of Central Florida)
,
Dezelah Charles L.
(EMD Performance Materials, Massachusetts, United States)
,
Woodruff Jacob
(EMD Performance Materials, Massachusetts, United States)
,
Kanjolia Ravindra K.
(EMD Performance Materials, Massachusetts, United States)
,
Kaden William E.
(Department of Physics, University of Central Florida)
,
Rahman Talat S.
(Department of Physics, University of Central Florida)
,
Banerjee Parag
(Institute of Materials Science and Engineering, Washington University in St. Louis)
,
Banerjee Parag
(Department of Mechanical Engineering and Materials Science, Washington University in St. Louis)
資料名：
Chemistry of Materials
(Chemistry of Materials)
巻： 31 号： 4 ページ： 1304-1317 発行年： 2019年
JST資料番号： T0893A ISSN： 0897-4756 CODEN： CMATEX 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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