文献
J-GLOBAL ID:201902221099725863
整理番号:19A1888207
Cu/SiO_2界面における混合酸化物形成の証拠【JST・京大機械翻訳】
Evidence of Mixed Oxide Formation on the Cu/SiO2 Interface
著者 (2件):
Benito Noelia
(Departamento de Fisica, Facultad de Ciencias Fisicas y Matematicas, Universidad de Chile, Chile)
,
Flores Marcos
(Departamento de Fisica, Facultad de Ciencias Fisicas y Matematicas, Universidad de Chile, Chile)
資料名:
Journal of Physical Chemistry C
(Journal of Physical Chemistry C)
巻:
121
号:
34
ページ:
18771-18778
発行年:
2017年
JST資料番号:
W1877A
ISSN:
1932-7447
CODEN:
JPCCCK
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)