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文献
J-GLOBAL ID：201902221251800125
整理番号：19A1200208
二つの堆積法を用いたWO_3膜の反応性スパッタ蒸着【JST・京大機械翻訳】
Reactive sputter deposition of WO3 films by using two deposition methods
Yasuda Yoji
(Tokyo Polytechnic University, 1853 Iiyama, Atsugi, Kanagawa 243-0297, Japan)
,
Hoshi Yoichi
(Tokyo Polytechnic University, 1853 Iiyama, Atsugi, Kanagawa 243-0297, Japan)
,
Kobayashi Shin-ichi
(Tokyo Polytechnic University, 1853 Iiyama, Atsugi, Kanagawa 243-0297, Japan)
,
Uchida Takayuki
(Tokyo Polytechnic University, 1853 Iiyama, Atsugi, Kanagawa 243-0297, Japan)
,
Sawada Yutaka
(Tokyo Polytechnic University, 1853 Iiyama, Atsugi, Kanagawa 243-0297, Japan)
,
Wang Meihan
(School of Mechanical Engineering, Shenyang University, Shenyang 110044, China)
,
Lei Hao
(Surface Engineering of Materials Division, Institute of Metal Research, Chinese Academy of Sciences, Shenyang 110016, China)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 37 号： 3 ページ： 031514-031514-6 発行年： 2019年
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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