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文献
J-GLOBAL ID：201902222607648161
整理番号：19A2819902
テンプレート応用のためのシリカナノスフェア単分子層の制御エッチング:系統的研究【JST・京大機械翻訳】
Controlled etching of silica nanospheres monolayer for template application: A systematic study
Utsav
(Department of Physics, Indian Institute of Technology Gandhinagar, Palaj, Gandhinagar, Gujarat, India)
,
Khanna Sakshum
(Solar Research and Development Centre, Pandit Deendayal Petroleum University, Gandhinagar, Gujarat, India)
,
Paneliya Sagar
(Solar Research and Development Centre, Pandit Deendayal Petroleum University, Gandhinagar, Gujarat, India)
,
Ray Abhijit
(Solar Research and Development Centre, Pandit Deendayal Petroleum University, Gandhinagar, Gujarat, India)
,
Mukhopadhyay Indrajit
(Solar Research and Development Centre, Pandit Deendayal Petroleum University, Gandhinagar, Gujarat, India)
,
Banerjee Rupak
(Department of Physics, Indian Institute of Technology Gandhinagar, Palaj, Gandhinagar, Gujarat, India)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 500 ページ： Null 発行年： 2020年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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