文献
J-GLOBAL ID:201902223505657629
整理番号:19A1415943
熱電応用のためのSiGe_0.3に埋め込まれた高秩序化Siナノワイヤの複合膜【JST・京大機械翻訳】
Composite films of highly ordered Si nanowires embedded in SiGe0.3 for thermoelectric applications
著者 (5件):
Kikuchi Akiou
(Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-01 Aramaki Aoba, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan)
,
Yao Akifumi
(Central Glass Co. Ltd., 5253 Okiube, Ube City, Yamaguchi 755-0001, Japan)
,
Mori Isamu
(Central Glass Co. Ltd., 5253 Okiube, Ube City, Yamaguchi 755-0001, Japan)
,
Ono Takahito
(Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-01 Aramaki Aoba, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan)
,
Samukawa Seiji
(Institute of Fluid Science, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
122
号:
16
ページ:
165302-165302-5
発行年:
2017年
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)