文献
J-GLOBAL ID:201902223537199752
整理番号:19A2933039
水熱法によるさまざまな配向のエピタキシャル(K,Na)NbO3膜の成長とその特性
Growth of epitaxial (K, Na)NbO3 films with various orientations by hydrothermal method and their properties
著者 (11件):
ITO Yoshiharu
(Tokyo Inst. of Technol., Kanagawa, JPN)
,
TATEYAMA Akinori
(Tokyo Inst. of Technol., Kanagawa, JPN)
,
NAKAMURA Yoshiko
(Tokyo Inst. of Technol., Kanagawa, JPN)
,
SHIMIZU Takao
(Tokyo Inst. of Technol., Kanagawa, JPN)
,
KUROSAWA Minoru
(Tokyo Inst. of Technol., Kanagawa, JPN)
,
UCHIDA Hiroshi
(Sophia Univ., Tokyo, JPN)
,
SHIRAISHI Takahisa
(Tohoku Univ., Miyagi, JPN)
,
KIGUCHI Takanori
(Tohoku Univ., Miyagi, JPN)
,
KONNO Toyohiko J.
(Tohoku Univ., Miyagi, JPN)
,
ISHIKAWA Mutsuo
(Toin Univ. Yokohama, Yokohama, JPN)
,
FUNAKUBO Hiroshi
(Tokyo Inst. of Technol., Kanagawa, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
58
号:
SL
ページ:
SLLB14.1-SLLB14.8
発行年:
2019年11月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)