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文献
J-GLOBAL ID：201902226157042182
整理番号：19A1796890
ナノスケール規模の製造のためのドライプロセスの進捗と展望:微細パターン転写と高アスペクト比形成
Progress and perspectives in dry processes for nanoscale feature fabrication: fine pattern transfer and high-aspect-ratio feature formation
IWASE Taku
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
KAMAJI Yoshito
(Hitachi High-Technol., Corp., Yamaguchi, JPN)
,
KANG Song Yun
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
KOGA Kazunori
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
KUBOI Nobuyuki
(Sony Semiconductor Solutions Corp., Kanagawa, JPN)
,
NAKAMURA Moritaka
(MAMO Aoba, Kanagawa, JPN)
,
NEGISHI Nobuyuki
(Hitachi, Ltd., Ibaraki, JPN)
,
NOZAKI Tomohiro
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
NUNOMURA Shota
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
OGAWA Daisuke
(Chubu Univ., Aichi, JPN)
,
OMURA Mitsuhiro
(Toshiba Memory Corp., Mie, JPN)
,
SHIMIZU Tetsuji
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
SHINODA Kazunori
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
SONODA Yasushi
(Hitachi High-Technol., Corp., Yamaguchi, JPN)
,
SUZUKI Haruka
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
TAKAHASHI Kazuo
(Kyoto Inst. of Technol., Kyoto, JPN)
,
TSUTSUMI Takayoshi
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
YOSHIKAWA Kenichi
(Toshiba Memory Corp., Mie, JPN)
,
ISHIJIMA Tatsuo
(Kanazawa Univ., Ishikawa, JPN)
,
ISHIKAWA Kenji
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 58 号： SE ページ： SE0802.1-SE0802.24 発行年： 2019年06月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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