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文献
J-GLOBAL ID：201902228287504908
整理番号：19A0182415
強いパルス光下での自己還元銅前駆体インクとフォトニック添加物収率伝導パターン【JST・京大機械翻訳】
Self-Reducing Copper Precursor Inks and Photonic Additive Yield Conductive Patterns under Intense Pulsed Light
Rosen Yitzchak S.
(Casali Center of Applied Chemistry, Institute of Chemistry, The Hebrew University of Jerusalem, Israel)
,
Yakushenko Alexey
(Institute of Bioelectronics (PGI-8/ICS-8) and JARA-Fundamentals of Future Information Technology, Forschungszentrum Juelich, Germany)
,
Offenhaeusser Andreas
(Institute of Bioelectronics (PGI-8/ICS-8) and JARA-Fundamentals of Future Information Technology, Forschungszentrum Juelich, Germany)
,
Magdassi Shlomo
(Casali Center of Applied Chemistry, Institute of Chemistry, The Hebrew University of Jerusalem, Israel)
資料名：
ACS Omega
(ACS Omega)
巻： 2 号： 2 ページ： 573-581 発行年： 2017年
JST資料番号： W5044A ISSN： 2470-1343 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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