文献
J-GLOBAL ID:201902228805400547
整理番号:19A1416245
レーザ熱モードリソグラフィーにおける熱場プロファイルの操作とシミュレーション【JST・京大機械翻訳】
Manipulation and simulations of thermal field profiles in laser heat-mode lithography
著者 (4件):
Wei Tao
(Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China)
,
Wei Jingsong
(Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China)
,
Wang Yang
(Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China)
,
Zhang Long
(Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
122
号:
22
ページ:
223107-223107-13
発行年:
2017年
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)