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文献
J-GLOBAL ID：201902233250906448
整理番号：19A0071133
大気圧熱マイクロプラズマジェットを用いたヘキサメチルジシラザンとヘキサメチルジシロキサンから堆積した微細構造SiO_x薄膜【JST・京大機械翻訳】
Microstructured SiOx thin films deposited from hexamethyldisilazane and hexamethyldisiloxane using atmospheric pressure thermal microplasma jet
Saito Tomohiro
(Department of Applied Chemistry, Chemical Engineering and Biochemical Engineering, Yamagata University, Jonan 4-3-16, Yonezawa, Japan.)
,
Mitsuya Rei
(Department of Applied Chemistry, Chemical Engineering and Biochemical Engineering, Yamagata University, Jonan 4-3-16, Yonezawa, Japan.)
,
Ito Yuta
(Department of Applied Chemistry, Chemical Engineering and Biochemical Engineering, Yamagata University, Jonan 4-3-16, Yonezawa, Japan.)
,
Higuchi Takeshi
(Department of Applied Chemistry, Chemical Engineering and Biochemical Engineering, Yamagata University, Jonan 4-3-16, Yonezawa, Japan.)
,
Aita Tadahiro
(Department of Applied Chemistry, Chemical Engineering and Biochemical Engineering, Yamagata University, Jonan 4-3-16, Yonezawa, Japan.)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 669 ページ： 321-328 発行年： 2019年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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