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文献
J-GLOBAL ID：201902235230678749
整理番号：19A0029332
シリコン上に形成されたナノ構造層の性質【JST・京大機械翻訳】
Properties of nanostructured layers formed on silicon
Jurecka Stanislav
(Institute of Aurel Stodola, University of Zilina, Liptovsky Mikulas, Slovak Republic)
,
Matsumoto Taketoshi
(The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, CREST, Japan Science and Technology Agency, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan)
,
Imamura Kentaro
(The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, CREST, Japan Science and Technology Agency, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan)
,
Kobayashi Hikaru
(The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, CREST, Japan Science and Technology Agency, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan)
資料名：
AIP Conference Proceedings
(AIP Conference Proceedings)
巻： 1996 号： 1 ページ： 020022-020022-6 発行年： 2018年
JST資料番号： D0071C ISSN： 0094-243X 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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