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文献
J-GLOBAL ID：201902235708661816
整理番号：19A2088108
赤外減衰全反射測定によるシリコンウエハにおける溶存酸素濃度の評価【JST・京大機械翻訳】
Evaluation of dissolved oxygen concentration in silicon wafers by measuring infrared attenuated total reflection
Usuki Kenshiro
(Fukushima University, 1 Kanayagawa, Fukushima, Fukushima 960-1296 Japan)
,
Mochizuki Toshimitsu
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 2-2-9 Machiikedai, Koriyama, Fukushima 963-0298 Japan)
,
Tanahashi Katsuto
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 2-2-9 Machiikedai, Koriyama, Fukushima 963-0298 Japan)
,
Takato Hidetaka
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 2-2-9 Machiikedai, Koriyama, Fukushima 963-0298 Japan)
,
Yamaguchi Katsuhiko
(Fukushima University, 1 Kanayagawa, Fukushima, Fukushima 960-1296 Japan)
資料名：
AIP Conference Proceedings
(AIP Conference Proceedings)
巻： 2147 号： 1 ページ： 140012-140012-4 発行年： 2019年
JST資料番号： D0071C ISSN： 0094-243X 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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