文献
J-GLOBAL ID:201902236310803325
整理番号:19A2751754
Si埋め込みMoS_2単分子層上のN_2Oの触媒還元:単一原子触媒アプローチ【JST・京大機械翻訳】
Catalytic reduction of N2O over Si-embedded MoS2 monolayer: A single-atom catalyst approach
著者 (1件):
Esrafili Mehdi D.
(Department of Chemistry, Faculty of Basic Sciences, University of Maragheh, P.O. Box 55136-553, Maragheh, Iran)
資料名:
Inorganic Chemistry Communications
(Inorganic Chemistry Communications)
巻:
108
ページ:
Null
発行年:
2019年
JST資料番号:
W1585A
ISSN:
1387-7003
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)