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文献
J-GLOBAL ID：201902240517866317
整理番号：19A2352844
MOS_2薄膜を横切る準バリスティック熱輸送【JST・京大機械翻訳】
Quasi-Ballistic Thermal Transport Across MoS2 Thin Films
Sood Aditya
(Department of Electrical Engineering, Stanford University, California, United States)
,
Sood Aditya
(Department of Mechanical Engineering, Stanford University, California, United States)
,
Xiong Feng
(Department of Electrical and Computer Engineering, University of Pittsburgh, Pennsylvania, United States)
,
Chen Shunda
(Department of Chemistry, University of California, California, United States)
,
Cheaito Ramez
(Department of Mechanical Engineering, Stanford University, California, United States)
,
Lian Feifei
(Department of Electrical Engineering, Stanford University, California, United States)
,
Asheghi Mehdi
(Department of Mechanical Engineering, Stanford University, California, United States)
,
Cui Yi
(Department of Materials Science and Engineering, Stanford University, California, United States)
,
Cui Yi
(Stanford Institute for Materials and Energy Sciences, SLAC National Accelerator Laboratory, California, United States)
,
Donadio Davide
(Department of Chemistry, University of California, California, United States)
,
Donadio Davide
(Ikerbasque, Basque Foundation for Science, Spain)
,
Goodson Kenneth E.
(Department of Mechanical Engineering, Stanford University, California, United States)
,
Goodson Kenneth E.
(Department of Materials Science and Engineering, Stanford University, California, United States)
,
Pop Eric
(Department of Electrical Engineering, Stanford University, California, United States)
,
Pop Eric
(Department of Materials Science and Engineering, Stanford University, California, United States)
,
Pop Eric
(Precourt Institute for Energy, Stanford University, California, United States)
資料名：
Nano Letters
(Nano Letters)
巻： 19 号： 4 ページ： 2434-2442 発行年： 2019年
JST資料番号： W1332A ISSN： 1530-6984 CODEN： NALEFD 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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