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J-GLOBAL ID:201902240517866317   整理番号:19A2352844

MOS_2薄膜を横切る準バリスティック熱輸送【JST・京大機械翻訳】

Quasi-Ballistic Thermal Transport Across MoS2 Thin Films
著者 (16件):
Sood Aditya
(Department of Electrical Engineering, Stanford University, California, United States)
Sood Aditya
(Department of Mechanical Engineering, Stanford University, California, United States)
Xiong Feng
(Department of Electrical and Computer Engineering, University of Pittsburgh, Pennsylvania, United States)
Chen Shunda
(Department of Chemistry, University of California, California, United States)
Cheaito Ramez
(Department of Mechanical Engineering, Stanford University, California, United States)
Lian Feifei
(Department of Electrical Engineering, Stanford University, California, United States)
Asheghi Mehdi
(Department of Mechanical Engineering, Stanford University, California, United States)
Cui Yi
(Department of Materials Science and Engineering, Stanford University, California, United States)
Cui Yi
(Stanford Institute for Materials and Energy Sciences, SLAC National Accelerator Laboratory, California, United States)
Donadio Davide
(Department of Chemistry, University of California, California, United States)
Donadio Davide
(Ikerbasque, Basque Foundation for Science, Spain)
Goodson Kenneth E.
(Department of Mechanical Engineering, Stanford University, California, United States)
Goodson Kenneth E.
(Department of Materials Science and Engineering, Stanford University, California, United States)
Pop Eric
(Department of Electrical Engineering, Stanford University, California, United States)
Pop Eric
(Department of Materials Science and Engineering, Stanford University, California, United States)
Pop Eric
(Precourt Institute for Energy, Stanford University, California, United States)

資料名:
Nano Letters  (Nano Letters)

巻: 19  号:ページ: 2434-2442  発行年: 2019年 
JST資料番号: W1332A  ISSN: 1530-6984  CODEN: NALEFD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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