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J-GLOBAL ID：201902242487838556 整理番号：19A0489019

CMOS互換リソグラフィー技術によりシリコン中に作製した低損失マイクロ共振器フィルタ:設計と特性評価【JST・京大機械翻訳】

Low-Loss Micro-Resonator Filters Fabricated in Silicon by CMOS-Compatible Lithographic Techniques: Design and Characterization

著者 (12件)：

Marchetti Riccardo

(Department of Electrical, Computer, and Biomedical Engineering, Universita di Pavia, Pavia I-27100, Italy)

Vitali Valerio

(Department of Electrical, Computer, and Biomedical Engineering, Universita di Pavia, Pavia I-27100, Italy)

Lacava Cosimo

(Optoelectronics Research Centre, University of Southampton, Southampton SO17 1BJ, UK)

Cristiani Ilaria

(Department of Electrical, Computer, and Biomedical Engineering, Universita di Pavia, Pavia I-27100, Italy)

Giuliani Guido

(Department of Civil Engineering and Architecture, Universita di Pavia, Pavia I-27100, Italy)

Muffato Viviane

(Photonic Department, CEA MINATEC Campus, Grenoble CEDEX F-38054, France)

Fournier Maryse

(Photonic Department, CEA MINATEC Campus, Grenoble CEDEX F-38054, France)

Abrate Silvio

(Istituto Superiore Mario Boella, Torino 10138, Italy)

Gaudino Roberto

(Dipartimento di Elettronica e Telecomunicazioni, Politecnico di Torino, Torino 10129, Italy)

Temporiti Enrico

(STMicroelectronics-Studio di Microelettronica, Via Ferrata 4, Pavia 27100, Italy)

Carroll Lee

(Photonic Packaging Group, Tyndall National Institute, Lee Maltings Complex, Cork T12R5CP, Ireland)

Minzioni Paolo

(Department of Electrical, Computer, and Biomedical Engineering, Universita di Pavia, Pavia I-27100, Italy)

資料名：

Applied Sciences (Web) (Applied Sciences (Web))

巻： 7 号： 2 ページ： 174 発行年： 2017年
JST資料番号： U7135A ISSN： 2076-3417 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：スイス (CHE) 言語：英語 (EN)

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