文献
J-GLOBAL ID:201902242748548375
整理番号:19A0668951
金属と金属酸化物粉末ターゲットを用いたマグネトロンスパッタリング蒸着によるSnドープSiO2薄膜の作製
Preparation of Sn doped SiO2 thin films by magnetron sputtering deposition using metal and metal-oxide powder targets
著者 (6件):
KAWASAKI Hiroharu
(Sasebo Coll., Nagasaki, JPN)
,
OHSHIMA Tamiko
(Sasebo Coll., Nagasaki, JPN)
,
YAGYU Yoshihito
(Sasebo Coll., Nagasaki, JPN)
,
IHARA Takeshi
(Sasebo Coll., Nagasaki, JPN)
,
SHINOHARA Masanori
(Sasebo Coll., Nagasaki, JPN)
,
SUDA Yoshiaki
(Ishikawa Coll., Ishikawa, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
58
号:
SA
ページ:
SAAD04.1-SAAD04.4
発行年:
2019年02月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)