文献
J-GLOBAL ID:201902245332877517
整理番号:19A2342698
サブミクロン厚の自立銅膜の破壊靱性に及ぼす表面酸化物層の影響【JST・京大機械翻訳】
Effects of surface oxide layer on fracture toughness of submicrometer-thick freestanding copper films
著者 (4件):
Kondo Toshiyuki
(Department of Mechanical Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan)
,
Miki Daiki
(Department of Mechanical Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan)
,
Hirakata Hiroyuki
(Department of Mechanical Engineering and Science, Kyoto University, Kyoto-daigaku-Katsura, Nishikyo-ku, Kyoto 615-8540, Japan)
,
Minoshima Kohji
(Department of Mechanical Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan)
資料名:
Engineering Fracture Mechanics
(Engineering Fracture Mechanics)
巻:
220
ページ:
Null
発行年:
2019年
JST資料番号:
A0119A
ISSN:
0013-7944
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)