文献
J-GLOBAL ID:201902245738986177
整理番号:19A2835052
マグネトロンスパッタリングによる薄膜成長におけるパラダイムシフト:成長膜のガスイオンから金属イオンへの照射【JST・京大機械翻訳】
Paradigm shift in thin-film growth by magnetron sputtering: From gas-ion to metal-ion irradiation of the growing film
著者 (4件):
Greczynski Grzegorz
(Thin Film Physics Division, Department of Physics (IFM), Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden)
,
Petrov Ivan
(Thin Film Physics Division, Department of Physics (IFM), Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden)
,
Greene J. E.
(Thin Film Physics Division, Department of Physics (IFM), Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden)
,
Hultman Lars
(Thin Film Physics Division, Department of Physics (IFM), Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
37
号:
6
ページ:
060801-060801-46
発行年:
2019年
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)