文献
J-GLOBAL ID:201902246554657843
整理番号:19A2341314
シリコンフォトニクスにおける非晶質低屈折率活性材料の集積【JST・京大機械翻訳】
Integration of Amorphous Low Refractive Index Active Materials in Silicon Photonics
著者 (4件):
Orobtchouk R.
(INSA, Institut des Nanotechnologies de Lyon, CNRS UMR5270, University of Lyon, Villeurbanne, 69100)
,
Belarouci A.
(INSA, Institut des Nanotechnologies de Lyon, CNRS UMR5270, University of Lyon, Villeurbanne, 69100)
,
Vilquin B.
(INSA, Institut des Nanotechnologies de Lyon, CNRS UMR5270, University of Lyon, Villeurbanne, 69100)
,
Romeo P. Rojo
(INSA, Institut des Nanotechnologies de Lyon, CNRS UMR5270, University of Lyon, Villeurbanne, 69100)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2019
号:
ICTON
ページ:
1
発行年:
2019年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)