文献
J-GLOBAL ID:201902246890791393
整理番号:19A0337053
プラズマ分子ビーム散乱法による壁表面へのH原子吸着の評価【JST・京大機械翻訳】
Evaluation of H-atom adsorption on wall surfaces with a plasma molecular beam scattering technique
著者 (4件):
Saiki Yu
(Department of Mechanical Engineering, Nagoya Institute of Technology, Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya 466-8555, Japan)
,
Kinefuchi Ikuya
(Department of Mechanical Engineering, The University of Tokyo, Tokyo, Japan)
,
Fan Yong
(Department of Mechanical Engineering, The University of Tokyo, Tokyo, Japan)
,
Suzuki Yuji
(Department of Mechanical Engineering, The University of Tokyo, Tokyo, Japan)
資料名:
Proceedings of the Combustion Institute
(Proceedings of the Combustion Institute)
巻:
37
号:
4
ページ:
5569-5576
発行年:
2019年
JST資料番号:
A0273A
ISSN:
1540-7489
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)