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文献
J-GLOBAL ID：201902247232642609
整理番号：19A0909293
p-クロロ-α-メチルスチレンを含む三元共重合ポジ型電子ビームレジストの曝露特性【JST・京大機械翻訳】
Exposure characteristics of ternary copolymerization positive tone electron beam resist containing p-chloro-α-methylstyrene
Tamaru Kenta
(Yamaguchi Univ. (Japan))
,
Ochiai Shunsuke
(Yamaguchi Univ. (Japan))
,
Kishimura Yukiko
(Yamaguchi Univ. (Japan))
,
Asada Hironori
(Yamaguchi Univ. (Japan))
,
Hoshino Ryoichi
(Fine Material System Inc. (Japan))
,
Iwakuma Minako
(National Institute of Technology, Miyakonojo College (Japan))
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 10807 ページ： 108070O-5 発行年： 2018年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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