文献
J-GLOBAL ID:201902247233054832
整理番号:19A2344616
ライナーおよびバリアフリーNiAlメタライゼーション:TDDB信頼性と界面状態からの展望【JST・京大機械翻訳】
Liner- and barrier-free NiAl metallization: A perspective from TDDB reliability and interface status
著者 (5件):
Chen Linghan
(Department of Materials Science, Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan)
,
Ando Daisuke
(Department of Materials Science, Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan)
,
Sutou Yuji
(Department of Materials Science, Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan)
,
Yokogawa Shinji
(The Info-Powered Energy System Research Center, The University of Electro-Communications, Chofu, Tokyo 182-8585, Japan)
,
Koike Junichi
(Department of Materials Science, Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
497
ページ:
Null
発行年:
2019年
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)