文献
J-GLOBAL ID:201902248371378507
整理番号:19A2104766
シリコンの結晶/溶融界面におけるσ3境界との相互作用に及ぼす粒界の方位角の影響【JST・京大機械翻訳】
Effect of misorientation angle of grain boundary on the interaction with Σ3 boundary at crystal/melt interface of multicrystalline silicon
著者 (6件):
Chuang Lu-Chung
(Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University, Katahira 2-1-1, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan)
,
Maeda Kensaku
(Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University, Katahira 2-1-1, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan)
,
Morito Haruhiko
(Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University, Katahira 2-1-1, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan)
,
Shiga Keiji
(Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University, Katahira 2-1-1, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan)
,
Miller Wolfram
(Leibniz-Institut fuer Kristallzuechtung (IKZ), Max-Born-Str. 2, 12489 Berlin, Germany)
,
Fujiwara Kozo
(Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University, Katahira 2-1-1, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan)
資料名:
Materialia
(Materialia)
巻:
7
ページ:
Null
発行年:
2019年
JST資料番号:
W5058A
ISSN:
2589-1529
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)