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文献
J-GLOBAL ID：201902252521067204
整理番号：19A0499161
磁石回転速度制御技術を用いたスパッタ蒸着膜の厚み均一性の改善【JST・京大機械翻訳】
Improving thickness uniformity of sputter-deposited films by using magnet rotation speed control technique
Miura Tatsuhiko
(Toshiba Memory Corporation 800, Yamanoisshiki-Cho, Yokkaichi, Mie, 512-8550, Japan)
,
Takita Shota
(Toshiba Memory Corporation 800, Yamanoisshiki-Cho, Yokkaichi, Mie, 512-8550, Japan)
,
Usuki Makoto
(Toshiba Memory Corporation 800, Yamanoisshiki-Cho, Yokkaichi, Mie, 512-8550, Japan)
,
Omoto Seiichi
(Toshiba Memory Corporation 800, Yamanoisshiki-Cho, Yokkaichi, Mie, 512-8550, Japan)
,
Nakagawa Takashi
(Toshiba Memory Corporation 800, Yamanoisshiki-Cho, Yokkaichi, Mie, 512-8550, Japan)
,
Sato Tsutomu
(Toshiba Memory Corporation 800, Yamanoisshiki-Cho, Yokkaichi, Mie, 512-8550, Japan)
,
Shiba Katsuyasu
(Toshiba Memory Corporation 800, Yamanoisshiki-Cho, Yokkaichi, Mie, 512-8550, Japan)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018 号： ISSM ページ： 1-3 発行年： 2018年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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