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文献
J-GLOBAL ID：201902254936413043
整理番号：19A1888210
SiO_2被覆プラズモンナノ構造によるホットElectron放出のブロッキング【JST・京大機械翻訳】
Blocking Hot Electron Emission by SiO2 Coating Plasmonic Nanostructures
Takeyasu Nobuyuki
(Graduate School of Natural Science and Technology, Okayama University, Japan)
,
Yamaguchi Kenzo
(Department of Advanced Materials Science, Faculty of Engineering, Kagawa University, Kagawa, Japan)
,
Yamaguchi Kenzo
(NanoPhotonics Centre, Cavendish Laboratory, Department of Physics, University of Cambridge, United Kingdom)
,
Kagawa Ryusuke
(Graduate School of Natural Science and Technology, Okayama University, Japan)
,
Kaneta Takashi
(Graduate School of Natural Science and Technology, Okayama University, Japan)
,
Benz Felix
(NanoPhotonics Centre, Cavendish Laboratory, Department of Physics, University of Cambridge, United Kingdom)
,
Fujii Masamitsu
(Department of Electronics and Mechanics, Toba National College of Maritime Technology, Mie, Japan)
,
Baumberg Jeremy J.
(NanoPhotonics Centre, Cavendish Laboratory, Department of Physics, University of Cambridge, United Kingdom)
資料名：
Journal of Physical Chemistry C
(Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121 号： 34 ページ： 18795-18799 発行年： 2017年
JST資料番号： W1877A ISSN： 1932-7447 CODEN： JPCCCK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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