文献
J-GLOBAL ID:201902256502028832
整理番号:19A1309988
H終端Si(111)-(1×1)表面上のFeの成長と界面形成の初期段階に関する原子論的研究【JST・京大機械翻訳】
Atomistic investigation on the initial stage of growth and interface formation of Fe on H-terminated Si(111)-(1 × 1) surface
著者 (3件):
Kawaguchi Ryo
(Department of Physics, Graduate School of Science, Tohoku University, Sendai 980-8578, Japan)
,
Eguchi Toyoaki
(Department of Physics, Graduate School of Science, Tohoku University, Sendai 980-8578, Japan)
,
Suto Shozo
(Department of Physics, Graduate School of Science, Tohoku University, Sendai 980-8578, Japan)
資料名:
Surface Science
(Surface Science)
巻:
686
ページ:
52-57
発行年:
2019年
JST資料番号:
C0129B
ISSN:
0039-6028
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)