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文献
J-GLOBAL ID：201902256642310646
整理番号：19A1889036
水素挿入グラフェン/4H-SiC(0001)の界面における非常に緩やかで異常な酸化【JST・京大機械翻訳】
Very Gradual and Anomalous Oxidation at the Interface of Hydrogen-Intercalated Graphene/4H-SiC(0001)
Maeda Fumihiko
(Department of Information Electronics, Faculty of Engineering, Fukuoka Institute of Technology, Fukuoka, Japan)
,
Maeda Fumihiko
(NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation, Kanagawa, Japan)
,
Takamura Makoto
(NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation, Kanagawa, Japan)
,
Hibino Hiroki
(NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation, Kanagawa, Japan)
,
Hibino Hiroki
(Department of Nanotechnology for Sustainable Energy, School of Science and Technology, Kwansei Gakuin University, Hyogo, Japan)
資料名：
Journal of Physical Chemistry C
(Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121 号： 47 ページ： 26389-26396 発行年： 2017年
JST資料番号： W1877A ISSN： 1932-7447 CODEN： JPCCCK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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