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文献
J-GLOBAL ID：201902257596470203
整理番号：19A1415480
W原子カプセル封じSiクラスタから成る非晶質SiリッチWシリサイド膜の熱安定性【JST・京大機械翻訳】
Thermal stability of amorphous Si-rich W silicide films composed of W-atom-encapsulated Si clusters
Okada Naoya
(Japan Science and Technology Agency, PRESTO, 4-1-8 Honcho, Kawaguchi, Saitama 332-0012, Japan)
,
Uchida Noriyuki
(Nanoelectronics Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan)
,
Kanayama Toshihiko
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8560, Japan)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 121 号： 22 ページ： 225308-225308-5 発行年： 2017年
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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