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文献
J-GLOBAL ID:201902257596470203   整理番号:19A1415480

W原子カプセル封じSiクラスタから成る非晶質SiリッチWシリサイド膜の熱安定性【JST・京大機械翻訳】

Thermal stability of amorphous Si-rich W silicide films composed of W-atom-encapsulated Si clusters
著者 (3件):
Okada Naoya
(Japan Science and Technology Agency, PRESTO, 4-1-8 Honcho, Kawaguchi, Saitama 332-0012, Japan)
Uchida Noriyuki
(Nanoelectronics Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan)
Kanayama Toshihiko
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8560, Japan)

資料名:
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

巻: 121  号: 22  ページ: 225308-225308-5  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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