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文献
J-GLOBAL ID：201902257736238270
整理番号：19A1873352
選択領域水素化物気相エピタキシー成長におけるファセットの安定性と埋め込みに及ぼすストライプパターンのオフ角の影響
Effect of off-angle of stripe patterns on facet stability and embedding in selective-area hydride vapor phase epitaxy growth
KIM Fijun
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
,
IKEUCHI Hiroki
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
,
NOJIMA Kohei
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
,
OKADA Narihito
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
,
TADATOMO Kazuyuki
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 58 号： SC ページ： SC1001.1-SC1001.5 発行年： 2019年06月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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