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文献
J-GLOBAL ID：201902259693497151
整理番号：19A0661071
超薄(<2nm)高分子被覆による多孔質超低k誘電体膜の表面局在封止【JST・京大機械翻訳】
Surface-Localized Sealing of Porous Ultralow-k Dielectric Films with Ultrathin (<2 nm) Polymer Coating
Yoon Seong Jun
(Department of Electrical Engineering, KAIST)
,
Pak Kwanyong
(Department of Chemical and Biomolecular Engineering, KAIST)
,
Nam Taewook
(School of Electrical and Electronic Engineering, Yonsei University, Republic of Korea)
,
Yoon Alexander
(Lam Research Corporation, California, United States)
,
Kim Hyungjun
(School of Electrical and Electronic Engineering, Yonsei University, Republic of Korea)
,
Im Sung Gap
(Department of Chemical and Biomolecular Engineering, KAIST)
,
Cho Byung Jin
(Department of Electrical Engineering, KAIST)
資料名：
ACS Nano
(ACS Nano)
巻： 11 号： 8 ページ： 7841-7847 発行年： 2017年
JST資料番号： W2326A ISSN： 1936-0851 CODEN： ANCAC3 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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