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文献
J-GLOBAL ID：201902262227890512
整理番号：19A1920347
固体電解質と電極界面における原子的に良く秩序化された構造は界面抵抗を低下させる【JST・京大機械翻訳】
Atomically Well-Ordered Structure at Solid Electrolyte and Electrode Interface Reduces the Interfacial Resistance
Shiraki Susumu
(Department of Applied Chemistry, Nippon Institute of Technology, Japan)
,
Shiraki Susumu
(Advanced Institute for Materials Research (AIMR), Tohoku University, Miyagi, Japan)
,
Shirasawa Tetsuroh
(National Metrology Institute of Japan, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Ibaraki, Japan)
,
Shirasawa Tetsuroh
(JST, PRESTO, Saitama, Japan)
,
Suzuki Tohru
(Advanced Institute for Materials Research (AIMR), Tohoku University, Miyagi, Japan)
,
Kawasoko Hideyuki
(Advanced Institute for Materials Research (AIMR), Tohoku University, Miyagi, Japan)
,
Shimizu Ryota
(Advanced Institute for Materials Research (AIMR), Tohoku University, Miyagi, Japan)
,
Shimizu Ryota
(JST, PRESTO, Saitama, Japan)
,
Shimizu Ryota
(School of Materials and Chemical Technology, Tokyo Institute of Technology, Japan)
,
Hitosugi Taro
(Advanced Institute for Materials Research (AIMR), Tohoku University, Miyagi, Japan)
,
Hitosugi Taro
(School of Materials and Chemical Technology, Tokyo Institute of Technology, Japan)
資料名：
ACS Applied Materials & Interfaces
(ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 10 号： 48 ページ： 41732-41737 発行年： 2018年
JST資料番号： W2329A ISSN： 1944-8244 CODEN： AAMICK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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