文献
J-GLOBAL ID:201902262536911548
整理番号:19A2157271
炭素熱還元を用いた有機金属分解法によるV1-xTixO2薄膜の作製
Fabrication of V1-xTixO2 thin films by metal-organic decomposition using carbon thermal reduction
著者 (5件):
HAI Van Nhu
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
,
KAWAHARA Masami
(Kojyundo Chemical Lab. Co., Ltd., Saitama, JPN)
,
SAMURA Tsuyoshi
(Kojyundo Chemical Lab. Co., Ltd., Saitama, JPN)
,
TACHIKI Takashi
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
,
UCHIDA Takashi
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
58
号:
7
ページ:
075506.1-075506.6
発行年:
2019年07月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)