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文献
J-GLOBAL ID：201902262711964169
整理番号：19A0918953
HiPIMS堆積システムにより堆積したNbN被覆の構造と特性に及ぼす負のBias電圧と窒素とArgonの比の影響【JST・京大機械翻訳】
Effects of Negative Bias Voltage and Ratio of Nitrogen and Argon on the Structure and Properties of NbN Coatings Deposited by HiPIMS Deposition System
Ding Jicheng
(School of Convergence Science, Pusan National University, Busan 609-735, Korea)
,
Ding Jicheng
(Global Frontier R&D Center for Hybrid Interface Materials, Pusan National University, Busan 609-735, Korea)
,
Zhang Tengfei
(Global Frontier R&D Center for Hybrid Interface Materials, Pusan National University, Busan 609-735, Korea)
,
Mei Haijuan
(School of Electromechanical Engineering, Guangdong University of Technology, Guangzhou 510006, China)
,
Yun Je Moon
(Global Frontier R&D Center for Hybrid Interface Materials, Pusan National University, Busan 609-735, Korea)
,
Jeong Seong Hee
(Global Frontier R&D Center for Hybrid Interface Materials, Pusan National University, Busan 609-735, Korea)
,
Wang Qimin
(School of Electromechanical Engineering, Guangdong University of Technology, Guangzhou 510006, China)
,
Kim Kwang Ho
(Global Frontier R&D Center for Hybrid Interface Materials, Pusan National University, Busan 609-735, Korea)
資料名：
Coatings (Web)
(Coatings (Web))
巻： 8 号： 1 ページ： 10 発行年： 2017年
JST資料番号： U7162A ISSN： 2079-6412 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： スイス (CHE) 言語： 英語 (EN)
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