文献
J-GLOBAL ID:201902263059502268
整理番号:19A1902581
半導体表面上に堆積した孤立およびクラスタ化Si量子ドットにおけるピコ秒電子動力学の比較【JST・京大機械翻訳】
Comparison of picosecond electron dynamics in isolated and clustered Si quantum dots deposited on a semiconductor surface
著者 (5件):
Fukumoto Keiki
(High Energy Accelerator Research Organization (KEK), 1-1 Oho, Tsukuba, Ibaraki 305-0801 Japan)
,
Seyhan Ayse
(Nigde Omer Halisdemir University, Nanotechnology Application and Research Center, 51240 Nigde, Turkey)
,
Onda Ken
(Kyushu University, 744 Motooka, Nishi-ku, Fukuoka 819-0395, Japan)
,
Oda Shunri
(Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8550, Japan)
,
Koshihara Shin-ya
(Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8550, Japan)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
115
号:
5
ページ:
053105-053105-5
発行年:
2019年
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)