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文献
J-GLOBAL ID:201902263059502268   整理番号:19A1902581

半導体表面上に堆積した孤立およびクラスタ化Si量子ドットにおけるピコ秒電子動力学の比較【JST・京大機械翻訳】

Comparison of picosecond electron dynamics in isolated and clustered Si quantum dots deposited on a semiconductor surface
著者 (5件):
Fukumoto Keiki
(High Energy Accelerator Research Organization (KEK), 1-1 Oho, Tsukuba, Ibaraki 305-0801 Japan)
Seyhan Ayse
(Nigde Omer Halisdemir University, Nanotechnology Application and Research Center, 51240 Nigde, Turkey)
Onda Ken
(Kyushu University, 744 Motooka, Nishi-ku, Fukuoka 819-0395, Japan)
Oda Shunri
(Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8550, Japan)
Koshihara Shin-ya
(Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8550, Japan)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 115  号:ページ: 053105-053105-5  発行年: 2019年 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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