文献
J-GLOBAL ID:201902263226821016
整理番号:19A2263030
反応性スパッタ法によって得られたZrN膜上のCu(111)高配向化
Preferentially oriented Cu(111) on ZrN film obtained by reactive sputtering
著者 (2件):
佐藤勝
(北見工大 工)
,
武山真弓
(北見工大 工)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
119
号:
181(CPM2019 37-43)
ページ:
5-7
発行年:
2019年08月19日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)