文献
J-GLOBAL ID:201902263544412606
整理番号:19A0658922
原子層堆積により堆積したAl_2O_3における反応と成長機構:水素源の解明【JST・京大機械翻訳】
Reaction and Growth Mechanisms in Al2O3 deposited via Atomic Layer Deposition: Elucidating the Hydrogen Source
著者 (4件):
Guerra-Nunez Carlos
(Laboratory for Mechanics of Materials and Nanostructure, EMPA, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Switzerland)
,
Doebeli Max
(ETH Zuerich, Switzerland)
,
Michler Johann
(Laboratory for Mechanics of Materials and Nanostructure, EMPA, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Switzerland)
,
Utke Ivo
(Laboratory for Mechanics of Materials and Nanostructure, EMPA, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Switzerland)
資料名:
Chemistry of Materials
(Chemistry of Materials)
巻:
29
号:
20
ページ:
8690-8703
発行年:
2017年
JST資料番号:
T0893A
ISSN:
0897-4756
CODEN:
CMATEX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)