文献
J-GLOBAL ID:201902264105863477
整理番号:19A0909276
FPDパネルフォトマスク用の新しい超高平坦基板【JST・京大機械翻訳】
Shin-Etsu super-high-flat substrate for FPD panel photomask
著者 (4件):
Ishitsuka Youkou
(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (Japan))
,
Harada Daijitsu
(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (Japan))
,
Watabe Atsushi
(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (Japan))
,
Takeuchi Masaki
(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (Japan))
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
10807
ページ:
1080705-5
発行年:
2018年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)