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文献
J-GLOBAL ID：201902264177475574
整理番号：19A1604375
銅とタンタルに基づくアルカリ研磨Surryの間のガルバニック腐食に及ぼすキレート剤の影響【JST・京大機械翻訳】
Effect of Chelating Agent on the Galvanic Corrosion between Copper and Tantalum based Alkaline Polishing Surry
Qi Jiacheng
(Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Devices, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China)
,
Pan Guofeng
(Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Devices, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China)
,
Wang Chenwei
(Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Devices, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China)
,
Huang Chao
(Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Devices, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China)
,
Hu Lianjun
(Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Devices, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019 号： CSTIC ページ： 1-3 発行年： 2019年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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